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057 EUV光刻机三大核心模块研发完（第1页）

当时叶龙查看这项技术的时候，异常兴奋。

搞懂原理之后，

马研发，

很快搞定。

刚刚他试验过了，

光源模块满足要求，

比他预想的效果还要好。

紧接着，

他马又研发镜头模块。

这也是重中之重。

要求极高：

一，超高精度。【镜头均匀度，纯净度，镜片数量要多】

二，反射效率要极高。【表面涂层避光性要极高，对涂层材料要求极高，一般镀有采用osi的多层膜结构】

三，少损失能量。【距离短，反射镜片少】

目前全球范围内，

能够制造这种镜头的，只有德意志国的蔡司镜头才能满足要求。

荷国阿斯麦公司的euv光刻机，采用的就是这种镜头。

当然，

如此先进的镜头，

有米国的阻挠，

夏国公司自然买不到。

不过，

按照叶龙的设计方案，

就是能买到蔡司公司的镜头，也根本无法满足要求。

必须自己研发。

还好抽奖已经获得了镜头模块技术。

不到两个小时，

他就弄懂这些技术，

融会贯通，设计出芯片结构，

还有制造工艺。

把王爱国叫来，

让他把设计图拿到车间，

吩咐工人赶紧加工。

“镜头？”

王爱国拿起设计图，

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