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第257节（第1页）

这套系统比asml的euv机台大了足足三倍，这是由于采用了功率更高的紫外混合激光发生系统，更复杂的透镜系统，和更牢固的刻蚀引擎。

罗佳的演讲永远充满干货，节奏飞快，刚才他还在讲北美陶氏化学，断供poe弹性体的事情，广义上的poe，是指乙烯辛烯共聚物、乙烯丁烯共聚物，乙烯己烯共聚物等等。

它们都是聚烯烃类弹性体，用来做pa尼龙增韧剂，pp抗冲改性，eva挤出软管，pe膜之类的产品。

目前全世界仅有六家厂商生产，并且全都是外企，我国对poe年需求量在二十万吨，全部必须靠进口。

陶氏化学作为全球最大的poe供应商，突然断供，对我国影响巨大，所以星辰化学现在临危受命，准备搞技术攻关。

另外罗佳还说，从这件事上要学会居安思危，塞拉尼斯集团的醋酸纤维丝，超分子量聚乙烯，聚苯硫醚pps，英威达和奥盛德集团的pa66，伊斯曼集团的pctg和petg，这些化工产品也要尽快完成进口替代。

反正罗佳是从化学，直接就跳到了光刻机，把正聚精会神听讲的观众们吓了一大跳，以为罗佳还要再扯一会儿呢，竟然直接进入正题了。

“我知道，很多西方同行在怀疑，我们这套究竟是不是真正的第四代光刻系统。”罗佳大声宣布道：“现在，怀疑的人可以睁大眼睛看清楚了，这是如假包换的第四代，超级紫外混合激光刻蚀曝光系统！”

“如这张简要设计图所示，我们在这套系统中，创造出了波长为零点五纳米的超紫外混合激光，其精度，是目前全球最先进，asml集团euv机台的整整二十七倍！”

“而为了获得比极紫外更强的光源，星辰光学团队研发了csmt全反射变焦镜头组件，变焦十六倍，数值孔径零点零三三，最大曝光范围七十六乘以九十三毫米！”

“这套透镜，是德国卡尔蔡司透镜性能的，整整三十倍！”

第378章企业界在行动国家队也有大动作

总的来说，第四代光刻机技术指标，是第三代euv的二十倍左右。

这就好比马车和火车的迭代，差距是全方位的，更短的波长只是一种表象，最惊人的创举在于，星辰科技突破了曝光功率的物理限制。

普通百姓们或许并不清楚，从第一代到第三代光刻机，其实都是大力出奇迹的结果。

就拿第三代euv来说，极紫外光是超大功率的电老虎，250w的机台每工作一天，就要耗费高达三万度的电力，而且还需要一套体积惊人的散热系统辅助。

技术不够，功率来凑，一直是光刻机发展的逻辑，在星辰科技之前，没有任何企业真正解决过这个问题，工程师们的思路通常简单粗暴，他们想要更精确地曝光效果，就不断的提高功率，制造更大的光源发生器，打磨更精良的透镜。

星辰科技之所以能够彻底解决问题，是因为他们没有延续大功率光源过爆的传统，而是直接采用了激光。

从本质上来来说，星辰科技的第四代光刻系统，就是一套激光散射平台，这玩意儿不仅能刻蚀硅晶圆，工艺改良之后，甚至还能发展出激光武器。

当然，从激光刻蚀平台到激光武器之间，还有很长的科技树要攀爬，并不能够一蹴而就。

“是激光散射！华夏人用了激光技术！”

“零点五纳米的激光刻蚀？那岂不是意味着，星辰科技有能力把芯片的指标，推进到零点一纳米，甚至更低？”

“完全无法想象，设计端跟上的话，需要多少核心，他们就能制造多少个核心，将128核心处理器塞进手机，也不再是痴人说梦了。”

“这太牛了吧？”

“星辰科技牛逼！”

尽管大多数吃瓜群众听不懂罗佳报出的技术参数，但专业人士却很快明白了这套光刻系统的厉害之处。

延续了几十年的光刻技术，从此脱胎换骨了，紫外光刻蚀即将退出历史舞台，未来必将属于星辰科技的激光刻蚀技术。

芯片这种主导了人类科技的顶尖产品，将在工艺方面达到崭新的高度，一纳米，零点一纳米，甚至零点零一纳米的芯片产品，将取代现有的七纳米技术，功耗，处理能力，发热，都会得到跨越式提高。

未来已来，华夏的科技同仁们为之欢呼振奋，而西方世界却陷入了深深的恐惧，他们万万没有想到，今天星辰科技拿出来的，竟然是真正的第四代技术，而且技术等级之高，几乎可以用奇迹来形容。

“完全听不懂呢，但这么多人发弹幕撒花，是很厉害的意思吗？”

随着罗佳的介绍继续，吃瓜群众们不明觉厉，纷纷打听。

“何止是厉害，星辰科技牛逼大了！第四代光刻技术不仅硅晶圆能用，日后发展更先进的石墨烯晶圆，高分子碳晶圆，也全都能用！是面向未来几十年的技术！”

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